イオン注入装置には、主に下記のガスをご用意いたします。

We supply the following gases for ion implantation:

下記ガス以外にも、特殊な材料、流体、固体も取り扱い致します。

We also supply special materials not listed below, and materials in liquid or solid forms upon request.

高千穂にて製造しているイオン注入機用ガス一覧
Table of Ion Implantation Gases Manufactured at Takachiho

容器種類 Cylinder Size	ガスの種類 Gas or Mixture	充填圧力 Filling Pressure	容量 Contents	容器バルブ形状 Valve Type	接続 Outlet Size
0.35L	AsH3 15%+H2	4.91MPa	17.5L	ダイアフラムバルブ ストレート型(SUS) Diaphragm Valve Straight Type	1/4PF 19山オス 19h male
	PH3 15%+H2	4.91MPa	17.5L
	PH3 15%+He	4.91MPa	17.5L
	BF3	7.36MPa	100g
	SiF4	4.91MPa	100g
	Ar	4.91MPa	17.5L
1L	AsH3 15%+H2	4.91MPa	50L	ダイアフラムバルブ アングル型(SUS) Diaphragm Valve Angle Type	22mm 14山左オス 14h left male 22mm 14 山右オス 14h right male
	PH3 15%+H2	4.91MPa	50L
	BF3	5.40MPa	200ｇ
	11BF3	2.95MPa	100g
	Ar	4.91MPa	50L	スピンドルバルブ アングル型 Spindle Valve Angle Type
3.4L	AsH3 15%+H2	4.91MPa	170L	ダイアフラムバルブ アングル型(B) Diaphragm Valve Angle Type	22mm 14山左オス 14h left male 22mm 14山右オス 14h right male
	PH3 15%+H2	4.91MPa	170L
	BF3	2.75MPa	300g	ダイアフラムバルブ アングル型(SUS) Diaphragm Valve Angle Type
	11BF3	1.97MPa	200g
	Ar	4.91MPa	170L	スピンドルバルブ アングル型 Spindle Valve Angle Type	22mm 14山右オス 14h right male
その他の 材料ガス Others	BCL3, Xe, Ne, O2, PF3, N2, CO2, B2H6 15%+H2, GeH4, AsH3, PH3

上記以外のガスはお問い合わせ下さい。
Please inquire about other gases not listed above

イオン注入装置関連

Ion Implantation Related Services

1. ガス配管工事、改造工事、容器取り付け作業、メンテナンスも行います。
2. 特殊配管、認定部品も取り扱い致します。
3. 0.35L、1Lサイズの容器は安全確保の目的で右下写真図のような専用ケース入りで供給いたします。

1. We install gas piping and tubings, perform alterations, cylinder changes, and maintenance.
2. We also accept special piping and tubing requests, and carry regulatory certified parts.
3. For your safety, we provide our 0. 35L and 1L cylinders in special boxes as seen in the picture on the right.

イオン注入装置材料ガスの使用上の注意事項

Notes on using ion implantation gases

1. イオン注入装置に使用される材料ガスは、毒性、腐食性、可燃性のものが多く、ガスの特性や緊急時の対応を十分にマスター
   しておくことが必要です。
   『製品安全データシート』を参考にして下さい。
2. 空気マスク等の呼吸保護具をご用意下さい。
3. 漏洩検知のために必要な検知器を必ずご用意下さい。
4. イオン注入装置に使用されている特殊ガスはきわめて毒性の強いものが多く、そのための排ガス処理装置も必要です。
5. イオン注入装置は、通常高真空が要求されます。使用されるガスが高圧のもの、それ以外のものであっても真空テスト、
   加圧テストの両方のリークテストが必要です。
6. 真空テストには、Heリークディテクターを使用し、加圧テストは、N2または不活性ガスを使用し、各接続部の気密をご確認下さい。
7. 圧力調整器の目盛りの減少を日々チェックし、リークの有無を検査し、さらに放置テストを行い圧力調整器のゲージの変動を
   チェックすることが必要です。

1. Material gas used for ion implantation is commonly poisonous, corrosive, and flammable.
   A thorough knowledge of the gases’ characteristics and emergency care are needed before use. Please refer to the appropriate Material Safety Data Sheet for details.
2. Please have air masks and other breathing protection apparatus ready at all times.
3. Please be sure to install all the necessary leak detectors.
4. Gas treatment and abatement systems are necessary due to the highly poisonous nature of most ion implantation gases.
5. Ion implantation equipment normally requires high vacuum. Regardless of the pressure of gases used (be it high pressure or atmospheric pressure), leak test of both types―vacuum test and pressure test―are necessary.
6. Please use helium leak detector for vacuum tests. Please use N2 or other inert gases for pressure tests, and confirm air tightness of all connections and joints.
7. Daily readings of regulator gauges, and regulator performance checks including leak tests and gauge performance tests are very important.