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   2024年12月11日(水)〜12月13(金)SEMICON® Japan2024
   【SEMICON® Japan2024 出展のお知らせ】
本年もSEMICON® Japan2024に出展いたします。本年は唯一国内製造 (Made in Japan)イオン注入ガスソースであり日本国内の半導体工場のお客様にご使用をいただいております、独自の技術を使った負圧型イオンソースガス 「T-ionTM」と「エキシマレーザーガス」を中心に紹介いたします。是非、当社ブースにお越し下さい。
(総合ゾーン 小間番号 5614)
T-ionTM容器を、ROTAREX社と協業で最新型インプラガスボックスにセットした状態で展示をいたします。これにより海外ソースから国内ソースT-ionTM容器への切り替えをわかりやすくイメージしていただき、且つ、あらたな展開のご提案もさせていただけるものと考えております。
また当社ブースではハッピーアワーを開催いたします。(※開催日時: 12月12日(木)16〜17時)
今年も貴社のお役に立てるよう深い情報交換をさせて頂きたいと存じます。
昨年以上に充実した内容になるようスタッフ一同努めて参りますので、ご多用中とは存じますが、皆様方のご来場をお待ち申し上げます。
 
【SEMICON® Japan2024公式HP】:https://expo.semi.org/japan2024

 

 

   24th IIT 2024
   2024年9月23日(月) 〜26日(木)
   富山国際会議場
   24th IIT 2024への出展とポスター発表のお知らせ

  第24回イオン注入技術に関する国際会議が、今年は富山国際会議場にて開催されます。
  技術者、研究者が最新のイオン注入技術について真剣に情報交換を行う絶好の機会です。
  基礎研究と実際の成果に焦点を当てたこのイベントは、参加者にとって既存のプロセスへの
  大きな刺激となることでしょう。高千穂化学工業のブースに立ち寄っていただき、イオン注入
  用ガス(T-ionTM)の実機を直接ご覧になり、ソリューションへの効果をご確認いただきたい
  と思います。
  また、ポスターセッションでは“Xe Sub-atmospheric Pressure Storage and Delivery Cylinder System”
  について発表いたします。

  ポスターセッション: 9月23日(月)午後6時から8時30分
  ポスター番号: P32

  スループット改善のための高千穂の新たなご提案をぜひ興味を持ってご覧ください。
  ご来場を心よりお待ち申し上げます。

 【24th IIT 2024公式HP】:https://smartconf.jp/content/iit2024
 


   Conference Name: The 24th International Conference on Ion Implantation Technology 2024 (IIT2024)
   When: September 23-26,2024
   Where: Toyama International Conference Center,Toyama, JAPAN
  IIT2024 is a great opportunity for engineers and researchers to seriously exchange
  information on the latest Ion Implantation Technology. The event will focus on basic
  research and practical results and will be a great stimulus for participants focusing existing
  processes. Please stop by our booth and poster session to see actual Ion Implantation Gases
  (T-ionTM) and understand the effects on your solutions.

  Poster Title: "Xe Sub-atmospheric Pressure Storage and Delivery Cylinder System"
  Poster session: September 23 (Monday) 6PM to 8:30PM ”
  Poster Number: P32

  Please take an interest in our new proposals to improve throughput.
  We look forward to seeing you at IIT 2024 in Toyama, Japan.

 24th IIT 2024: https://smartconf.jp/content/iit2024
 


   2024年9月11日(水)〜13日(金) 第65回大気環境学会 於 慶応義塾大学日吉キャンパス 
   2024/9/11(Wed) - 9/13(Fri) The 65th Annual Meeting of Japan Society for Atmospheric Environment

 慶應義塾大学日吉キャンパスにて開催される「第65回大気環境学会」におきまして
 「環境測定用標準ガス(NH3標準ガス)の開発」のテーマでポスターセッションにて発表致します。
 【大気環境学会年会 公式HP】:https://sites.google.com/view/jsae65keio
 
   2024年5月31日 社長名鑑に社長インタビュー記事掲載
「お客様の最後の砦であることを誇りに。少量多品種の特殊ガス製造で日本の産業を支えるパイオニア企業」が掲載されました。
社長名鑑:https://shachomeikan.jp/industry_article/2408   

   2024年5月31日 化学工業日報社に記事掲載
2024年5月29日 社長インタビュー(半導体特殊ガス拡販 −吸着型、扱い易さ訴求)の記事が掲載されました。


   VOC14種対応 JCSS 土壌ガス分析用標準ガス「 TERRA-SOILTM(テラソイル)」販売開始
 2023年12月22日に高千穂化学工業株式会社は揮発性有機化合物14成分の混合標準ガス「TERRA-SOILTM」について、
JCSSの登録を取得いたしました。
今回の登録・認定により環境省によって定められている「土壌汚染対策法に基づく土壌ガス調査に係る採取及び測定の
方法を定める件(平成15年環境省告示第16号)」の規定に則った混合標準ガスに全成分対応した製品のご提供が可能
となりました。詳しくは、プレスリリース をご覧ください。


   高千穂商事株式会社ISO9001取得のお知らせ
 2023年10月6日に高千穂商事株式会社はISO9001を取得しました
 1998年9月28日に取得した高千穂化学工業株式会社と合わせて
 特殊ガスに関するお客様からの対応、製造、販売までを統合した品質保証体制が構築できました。
 今後は国際基準をクリアした品質の製品とサービスをお客様に提供する企業として邁進いたします。
 
   2023年12月13日(水)〜15日(金)SEMICON® Japan2023
   【SEMICON® Japan 2023 出展のお知らせ】
本年もSEMICON® Japan2023に出展いたします。本年は唯一国内製造イオン注入ガスソースであり日本国内の半導体工場のお客様にご使用をいただいております、独自の技術を使った負圧型イオンソースガス「T-ionTM」と「エキシマレーザーガス」を中心に紹介いたします。 是非、当社ブースにお越し下さい。(前工程ゾーン 小間番号 2519)
新たな試みとして、T-ionTM容器を最新型インプラガスボックスに実際セットした状態での展示をいたします。これにより、T-ionTMをセットしたイメージをわかりやすく認識していただき且つ、あらたな展開のご提案もさせていただけるものと考えております。
また当社ブースではハッピーアワーを開催いたします。(※開催日時: 12月14日(木)16〜17時) 今年も貴社のお役に立てるよう深い情報交換をさせて頂きたいと存じます。
昨年以上に充実した内容になるようスタッフ一同努めて参りますので、ご多用中とは存じますが、皆様方のご来場をお待ちしております。
(展示させていただく製品は添付資料をご参照ください)
SEMICON Japan 2023 ご案内.pdf
SEMICON Japan 2023 ハッピーアワーご案内.pdf
 
【ブース番号】東展示場 2ホール 前工程ゾーン 小間番号2519 (Super THEATER ステージ裏)
【SEMICON®Japan 2023公式HP】:https://www.semiconjapan.org

 

 

  

 2023年4月1日 新型コロナウイルス対策の基本方針

    当社の新型コロナウイルス対策に関する基本方針フェイズ6


   2022年12月14日(水)〜16日(金)SEMICON® Japan2022
   【SEMICON® Japan2022終了のお知らせ】
ご多忙にもかかわらず2022年12月14日(水)〜16日(金)SEMICON Japan2022高千穂ブースにご来場頂き、誠にありがとうございました。
本年は独自の技術を使った負圧型イオンソース「T-ionTM」と「エキシマレーザーガス」の2つを中心に展示させていただきましたが
いかがだったでしょうか。
また、当日は御説明が至らなかった点もあったと思いますが、ご容赦頂けますと幸いです。

 

 

   2022年12月14日(水)〜16日(金)SEMICON® Japan2022
   【SEMICON® Japan 2022出展のお知らせ】
さて、本年もSEMICON® Japan2022に出展することになりました。本年は日本国内の半導体市場で初めて製造を実施している独自の技術を使った負圧型イオンソースT-ionTMの製造・販売を開始いたしました。この「T-ionTM」と「エキシマレーザーガス」中心にその関連材料などを紹介いたします。
ぜひ当社ブース(東5ホール 前工程ゾーン 小間番号5610)にお越しください。また当社ブースではハッピーアワーを開催いたします。
(開催日時: 12月15日(木)16〜17時) 
今年も貴社のお役に立てるよう深い情報交換をさせて頂きたいと存じます。昨年以上に充実した内容になるようスタッフ一同努めて参りますので、ご多用中とは存じますが、皆様方のご来場をお待ちしております。展示させていただく製品は添付資料をご参照ください。
SEMICON Japan 2022 ご案内.pdf
SEMICON Japan 2022 ハッピーアワーご案内.pdf
 
【ブース番号】東5ホール 前工程ゾーン 小間番号5610
【SEMICON®Japan 2022公式HP】:https://www.semiconjapan.org

 

 

   2022年4月1日 新型コロナウイルス対策の基本方針
    当社の新型コロナウイルス対策に関する基本方針フェイズ5


   2021年10月16日 新型コロナウイルス対策の基本方針
    当社の新型コロナウイルス対策に関する基本方針フェイズ4


   2021年8月10日 新型コロナウイルス対策の基本方針
    当社の新型コロナウイルス対策に関する基本方針フェイズ3


   2020年7月3日 新型コロナウイルス対策の基本方針
    当社の新型コロナウイルス対策に関する基本方針フェイズ2


   2020年4月3日 新型コロナウイルス対策の基本方針
    当社の新型コロナウイルス対策に関する基本方針


   2020年2月28日 日本初 JCSS 土壌ガス分析用標準ガス「TERRA-SOILTM(テラソイル)販売開始」
当社は日本で初めて 「揮発性有機化合物12混合標準ガス(窒素希釈)、塩化ビニル標準ガス(窒素希釈)」 の計量法トレーサビリティ制度(JCSS)登録事業者として独立行政法人製品技術基盤機構(NITE)により認定されました。詳しくは、プレスリリース をご覧ください。


   2019年12月11日(水)〜13日(金)SEMICON Japan2019
   【SEMICON Japan2019終了のお知らせ】
ご多忙にもかかわらず2019年12月11日(水)〜13日(金)SEMICON Japan2019高千穂ブースにご来場頂き、
誠にありがとうございました。「薄膜プロセスに必要な新素材としてSelf-Assembled Monolayers (SAM)」
「特殊ガス中の金属不純物分析を提案します」の2つをテーマに展示を致しましたが、いかがだったでしょうか。
また、当日は御説明が至らなかった点もあったと思いますが、ご容赦頂けますと幸いです。

 

 

   2019年12月11日(水)〜13日(金)SEMICON Japan2019
   【SEMICON Japan2019 出展のお知らせ】
さて、本年も43年目となるSEMICON® Japan2019に出展することになりました。本年は 「薄膜プロセスに必要な新素材としてSelf-Assembled Monolayers (SAM)」「特殊ガス中の金属不純物分析を提案します」の2つをテーマに、レガシー半導体から次世代向けの新しいデバイス開発のキーとなる新材料、国内最高スペック、世界の材料を取り揃えました。ぜひ当社ブース(南1ホール7305)にお越しください。また当社ブースではハッピーアワーを開催いたします。(※開催日時: 12月12日(木)16〜17時 )今年も貴社のお役に立てるよう深い情報交換をさせて頂きたいと存じます。昨年以上に充実した内容になるようスタッフ一同努めて参りますので、ご多用中とは存じますが、皆様方のご来場をお待ちしております。製品の御照会は添付資料をご参照下さい。
SEMICON Japan 2019 ご案内.pdf
 
【ブース番号】南1ホール 小間番号7305
【SEMICON Japan2019公式HP】:https://www.semiconjapan.org/jp/register

 

 

   2019年9月18日(水)〜20日(金) 第60回大気環境学会 環境機器展
2019年9月18日(水)〜20日(金)に、東京農工大学 府中キャンパスにて行われます第60回大気環境学会年会併設の「環境機器展」に出展致します。
従来のTERRAシリーズや “匂い”の標準ガス TERRA-OLFA MixTM などを紹介します。
皆様のご来場を心よりお待ちしております。 詳細は、大気環境学会年会ホームページをご覧下さい。
【大気環境学会年会 公式HP】:https://conv.toptour.co.jp/2019/jsae60/index.html


   2019年9月18日(水) 〜19日(木) 先端化学材料・素材総合展
   ケミカル マテリアル Japan2019 展示会への出展
   会場 パシフィコ横浜ホールC,D
 特殊ガス・基準標準ガスに関連する弊社の製品ラインナップを発表致します。
 ご来場を心よりお待ち申し上げております。
 【ブース番号】 Hall -Booth C-27
 【ケミカルマテリアルJapan2019公式HP】:https://www.chemmate.jp

   2019年5月26日(日) 〜29日(水) ISOEN2019
   【ISOEN2019出展のお知らせ】
 会場 アクロス福岡
 第18回嗅覚とエレクトロニックノーズ国際シンポジウム『ISOEN2019』へ出展致します。
 第18th International Symposium on Olfaction and Electronic Nose(ISOEN)として、匂いや匂いセンサから味覚・味覚センサに係わる国際会議です。
 各種センサの開発と各分野においての基礎研究などの発表があります。当社は悪臭、着臭ガスなどの匂い関連の標準ガスを1973年以前から製品化
 しています。
 是非ともご来場ください。

 【展示場所】
 アクロス福岡 4F 国際会議場前 ホワイエ
 【ISOEN2019公式HP】:http://isoen.org
 

   【SEMICON Japan2018終了のお知らせ】
 ご多用中にもかかわらず2018年12月12日(水)〜14日(金)SEMICONR Japan2018高千穂ブース 、
 「薄膜プロセスに必要な新素材としてHCDS 高純度99.999999% SiN-ALD用」、
 「地球環境にやさしいエッチング、クリーニング用フロン系ガス」へご来場いただきまして、誠にありがとうございました。
 当日はご説明が至らなかった点もあったかと思いますが、ご容赦頂けますと幸いです。
 

   2018年12月12日(水) 〜14日(金) SEMICON Japan2018
   【SEMICON Japan2018 出展のお知らせ】
 今年もSEMICON Japan2018に出展することになりました。
今年は「薄膜プロセスに必要な新素材としてHCDS 高純度99.999999% SiN-ALD用」、
地球環境にやさしいエッチング、クリーニング用フロン系ガスを提案します」の2つをテーマに、
レガシー半導体から次世代向けの新しいデバイス開発のキーとなる新材料、国内最高スペック、
世界の材料を取り揃えました。
また当社ブースではハッピーアワーを開催いたします。(※開催日時:12月13日(木)16〜17時 )
今年も貴社のお役に立てるよう深い情報交換をさせて頂きたいと存じます。
昨年以上に充実した内容になるようスタッフ一同努めて参りますので、ご多用中とは存じますが、
皆様方のご来場をお待ちしております。
 
【ブース番号】Hall5-5406 
【SEMICON Japan2018公式HP】:http://www.semiconjapan.org/jp

 

 

   2018年5月17日(木) 〜18日(金) 社会基盤、安全を支える技術・素材
   ケミカル マテリアル Japan2018 展示会への出展
 特殊ガス・基準標準ガスに関連する弊社の製品ラインナップを発表致しました。
 ご来場ありがとうございました。


   2018年2月21日 化学工業日報社に記事掲載
2018年2月21日 社長インタビュー(高千穂企業戦略に関して)の記事 が掲載されました


   2017年12月22日 化学工業日報社に記事掲載
2017年12月22日 社長インタビュー(高千穂商事大阪営業所は大阪市淀川区三国東の区画整理をきっかけに堺市へ移転)の記事 が掲載されました。


   2017年12月13日 化学工業日報社に記事掲載
2017年12月13日 社長インタビュー(標準ガスNIST対応証書刷新)の記事が掲載されました。


   2017年11月30日 電子産業デバイス新聞に記事掲載
2017年11月30日 社長インタビュー(ガスに加えALD用有機材料提供)の記事が掲載されました。


   gasworld December 2017, Specialty Gas Report
Article published in gasworld December 2017, Fourth Quarter, Specialty Gas Report Supplement No.12.
Title: In memoriam Masashi Egami, pioneer of the Japanese specialty gases industry on September 18th 2017.
In memoriam_SGR Q417.pdf

   2017年12月13日(水)〜15日(金) SEMICON Japan2017
東京ビックサイトで開催された「SEMICON® Japan2017」へ出展致しました。今年は「薄膜プロセスに必要な新素材」「地球環境にやさしいエッチング、クリーニング用フロン系ガスを提案します」の2つをテーマに、レガシー半導体から次世代向けの新しいデバイス開発のキーとなる新材料、国内最高スペック、世界の材料を取り揃えました。
ご来場、ありがとうございました。


   Artlcle published by gasworld, October 2017
Artlcle published by gasworld dated 17th October 2017 for event to celebrate Masashi Egami, founder and Chairman of Takachiho Chemical/Takachiho Trading on 18th September.
https://www.gasworld.com/a-tribute-to-the-founder-of-takachiho-masashi-egami-the-pioneer-of-japans-specialty-gas-industry/2013639.article


   「ガスレビュー」2017年10月15日号 No.874に記事掲載
高千穂商事、高千穂化学工業 故江上正会長を偲ぶ「江上正を偲ぶ会 受け継がれる特殊ガスの魂の絆」が9月18日国際文化会館で開催されました。半那純一東工大名誉教授らによる追悼の辞と東工大出身でベンチャー企業を立ち上げた原口大輔、川口卓志両社長による記念講演が行われました。
(詳しくは、添付掲載紙 をご覧ください。)


   「ガスメディア」2017年10月10日号に記事掲載
9月18日、高千穂商事、高千穂化学工業 創業者で前会長「江上正を偲ぶ会・記念講演会」が開催されました。学会・業界関係者などが多数が参会し、記念講演、江上会長の歩みやインタビューを紹介したビデオ上映などが行われました。日本の特殊ガス業界へ多大な貢献をした故人を偲びました。(詳しくは、添付掲載紙 をご覧ください。)


   2017年9月20日(水)化学工業日報に記事掲載
「江上会長を偲ぶ会 受け継がれる特殊ガスの魂の絆・記念講演会」が2017年9月18日、東京六本木の国際文化会館にて開催されました。ガス業界・関係企業、関係団体、生前親交のあった関係者など多くの参会者により故人の冥福を祈りました。 近年ベンチャー企業を設立した母校東工大出身者のOBによる記念講演も同時に行われました。(詳しくは、添付掲載紙 をご覧ください。)


   2017年9月18日「会長を偲ぶ会・記念講演会」開催
高千穂化学・高千穂商事主催の「江上正会長を偲ぶ会 受け継がれる特殊ガスの魂の絆・記念講演会」が、
2017年9月18日(月)東京 港区の国際文化会館で午後12時30分より午後3時30分まで開催されました。 記念講演には東京工業大学半那純一名誉教授の追悼の辞、ベンチャー企業を立ち上げた東工大OBによる講演が行われました。詳しくは、プレスリリース をご覧ください。


   TAKACHIHO TERRA-SOIL Release. June 2017
平成28年3月に土壌汚染対策法施行令の一部を改正する政令第74号、及び平成28年環境省告示第32号が公布され、平成29年4月1日より、新たにクロロエチレン(別名:塩化ビニルモノマー)が特定有害物質として指定されました。詳しくは、プレスリリース をご覧ください。


   2017年4月4日(火) 〜 7日(金) 日本初のガス・LNG関連企業が集う大規模な国際会議・展示会への出展
ガス・LNGに関連する弊社の新たな製品ラインナップを発表致しました。
ご来場ありがとうございました。


   2016年11月11日(金) 日本初の国際MRA取得(標準ガス:濃度区分)
高千穂化学工業株式会社の町田事業所計測ガス工場は、2016年11月21日に更新期日を迎えたJCSS登録更新にあたって、同審査を通過しJCSS登録事業者としての更新と共に、同時に申請したMRAの認定を日本の標準ガス製造者として初めて本日2016年11月11日に取得いたしました。これにより弊社は従来のJCSSに加え、JCSSに関わる標準ガスで国際的に受入れられる校正証明書の発行が可能となりました。詳しくは、プレスリリース をご覧ください。




   2016年12月14日(水)〜16日(金) SEMICON Japan 2016
東京ビッグサイトで開催された「SEMICON Japan 2016」へ出展致しました。
ご来場ありがとうございました。


   2016年1月27日(水)〜29日(金) 新機能性材料展 2016
東京ビッグサイトで開催された「新機能性材料展 2016」へ出展致しました。
ご来場、ありがとうございました。


   2015年12月16日(水)〜18日(金) SEMICON Japan 2015
東京ビッグサイトで開催された「SEMICON Japan 2015」へ出展致しました。高千穂は世界中から探してきた新しいデバイス開発をキーとするALD, ALEt, ALCのラインナップを発表しました。
ご来場ありがとうございました。


   2014年12月3日(水)〜5日(金) SEMICON Japan 2014
東京ビッグサイトで開催された「SEMICON Japan 2014」へ出展致しました。今回、高千穂はパワー半導体向けに開発したガス製品ラインナップを発表しました。
ご来場ありがとうございました。


   2014年7月31日(木) ガス供給操作パネルの低圧側リーク検査体制強化のお知らせ
 この度弊社は【自動記録圧力計】を購入致しました。 これはボンベ庫から建物内のガス操作パネルのゲージまでの減圧されたガス配管の気密検査(リーク)を、【自動記録圧力計】と呼ばれる機器で3時間以上チャート紙に自動的に記録を取るという検査で、通常2次側(低圧)の気密(リーク)検査を行います。 対象となるガスは、自動車排気ガス測定装置等に使用される基準となるC3H8、CO、CO2、O2等の計測機器用基準ガスです。これらのガスを使用される際、3次側の配管からガスリークが発生していると正確な分析が不可能となります。そこでこの機器を用い、ガスリークの有無を時間をかけて検査します。 弊社は自動車排気ガス測定装置向けで実績を積み、今後皆様からのご要求に迅速にお応えする体制が整いました。
 価格、納期、用途等詳細につきましては当ホームページ画面上のお問い合わせをクリック頂き、弊社までメールでお問い合わせ頂くか、弊社営業担当まで直接ご依頼下さい。


   2014年7月8日(火) 米国のSpecialty Gas Report誌に記事が掲載されました
米国のSpecialty Gas Report誌(Second Quater July 2014)に、弊社創業者である江上正会長の「百寿を祝う会」の記事が掲載されました。 It was originally published in Specialty Gas Report.


   2014年7月2日(水) 九州出張所がスタートしました
念願でございました九州の地に営業出張所を開設いたしました。更に皆様に密着した活動を展開していく所存でございます。
住所 佐賀県三養基郡みやき町大字原古賀3587番地
問合せ先は当ホームページ画面上の会社案内−事業所にてご確認ください。


   2014年6月18日(水) Mayaterials社製Q8シリーズ製品販売開始
シルセスキオキサン誘導体として米国Mayaterials社製 Q8シリーズ製品の販売を開始致しました。取り扱い製品につきましては OPEN▼をクリックしてください。また価格、納期、用途等詳細につきましては当ホームページ画面上のお問い合わせをクリック頂き、弊社までお問い合わせ下さい。


   2014年2月10日(月) シリコン清掃用ガス(フッ化ヨウ素 IF5)販売開始
半導体や液晶の製造装置に溜まったシリコンなどのクリーニングに使用されるフッ化ヨウ素IF5の販売を開始しました。 価格、納期等詳細につきましては弊社営業まで直接お問い合わせ下さるか、当ホームページ画面上のお問い合わせボタンをクリック頂き、 弊社までメールにてお問い合わせ下さい。


   2014年2月10日(月) 重アンモニアND3 重点拡販開始
重アンモニアND3の重点拡販を開始致しました。 価格、納期等詳細につきましては弊社営業まで直接お問い合わせ下さるか、当ホームページ画面上の お問い合わせボタンをクリック頂き、弊社までメールにてお問い合わせ下さい。


   2013年12月17日(火) 化学工業日報誌に記事が掲載されました。
2014年12月17日 化学工業日報社発行の化学工業日報に「高千穂化学工業 江上真紀社長に聞くインタビュー」の記事が掲載されました。


   2013年12月6日(金) ガスクロマトグラフィー誕生60周年記念講演会
2013年12月6日(金)に開催されるガスクロマトグラフィー誕生60周年記念講演会(主催:ガスクロマトグラフィー研究懇談会)において、 弊社のガスクロマトグラフィーの進歩・発展への貢献が評価され、感謝状をいただきました。
ガスクロマトグラフィー研究懇談会 http://www.jsac.or.jp/~gc/


   2013年12月4日(水)〜6日(金) SEMICON Japan 2013
幕張メッセ国際展示場で開催された「SEMICON Japan 2013」に出展致しました。今回、高千穂はパワー半導体向けに開発した新しいガス製品を発表しました。
ご来場いただき、ありがとうございました。


   2013年11月15日 ガスレビューに記事掲載
2013年11月15日 工業ガス専門誌 ガスレビュー(No.780号)に『高千穂化学創業者、江上正会長「百寿を祝う会」開催』の記事が掲載されました。


   2013年10月22日(火) 化学工業日報紙に記事が掲載されました。
2013年10月22日 化学工業日報社発行の化学工業日報に弊社創業者である江上正会長の「百寿を祝う会」の記事が掲載されました。


   2013年9月18日(水)〜20日(金) 第54回大気環境学会 環境機器展
2013年9月18日(水)〜20日(金)に朱鷺メッセ新潟コンベンションセンターで開催された「第54回大気環境学会年会」併設の「環境機器展」に出展致しました。従来のTERRAシリーズや国内初のHCHO/Air、シロキサン類9mixガス、水道水質基準測定用標準ガスTERRA-Waterなどを紹介いたしました。植物由来のB-VOC計測用ガスアプリーション「TERRA-BOTANICA」を発表致しました。
ご来場いただき、ありがとうございました。


   2013年9月29日〜10月4日 ICSCRM2013
2013年9月29日(日)〜10月4日(金)まで宮崎県フェニックス・シーガイア・リゾートで開催された「ICSCRM2013」に出展致しました。各種「SiC材料用N2フリーガス」をテーマに販売中の窒素フリーC3H8、SiH4をはじめ、新しく開発中の窒素フリーC2H4、SiH2Cl2、SiHCl3などの紹介をいたしました。
ご来場いただき、ありがとうございました。
 


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