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- ・高純度アルシン・ホスフィン・三フッ化ホウ素・11BF3・シラン・酸窒化膜用NO
- ・モノメチルシラン、トリメチルシラン、トリシラン
、テトラシラン
- ・イオン注入用ガス、半導体製造用混合ガス
- ・High Purity Arsine, Phosphine, Boron Trifluoride, 11BF3, Silane, Nitric
Oxide for Silicon Oxynitride (SiON)Film, Monomethylsilane, Trimethylsilane,
Trisilane,Tetrasilane
- ・Ion Implantation Gases,
Mixture Gases for Semiconductor
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